

你有没有发现,AI芯片越做越大,但晶圆还是圆的?
这就尴尬了——你把方形的芯片硬塞进圆形的晶圆里,边缘那圈白白浪费掉的材料,谁看了不心疼?
而2026年,一场半导体封装界的"化圆为方"运动正在悄悄引爆!面板级封装(PLP)成了新风口,更让人惊喜的是,这一次国产设备商不仅没掉队,反而密集"交卷",开始抢跑这条新赛道!
大家都知道,芯片本身是方形的。
把方形的饼干装进圆形的罐子里,边边角角全是空隙。同样的道理,传统的圆形晶圆在封装面积利用率上,就是这么憋屈。
尤其是AI芯片越来越大、设计越来越复杂,这个"浪费病"越来越严重。
以标准的610mm×457mm面板来算,它的面积大约是300mm晶圆的4倍!
这意味着什么?
同样的生产批次,产出直接翻4倍!
不仅如此,方形面板排方形芯片,边缘浪费几乎为零。材料利用率从"凑合"直接变成了"极致"。
好家伙,这就是传说中的"降维打击"啊!
台积电的CoWoS封装技术,现在是全球AI/HPC芯片的主流方案,2025年它占了2.5D/3D先进封装69%的市场份额。
英伟达、AMD、谷歌用的都是这套方案。
但是,产能根本不够用啊!AI芯片订单爆了,CoWoS产线排期排到天际线去了。
所以,CoPoS(Chip-on-Panel-on-Substrate)来了——用面板取代晶圆,让多颗芯片封装在一起,产能瓶颈瞬间打开。
面板级封装不是简单地把设备放大就行了。
基板大了,翘曲、热膨胀、形变……样样都是新难题。
Onto Innovation的JetStep S3500光刻系统,专为面板级封装设计,曝光场高达59.4×59.4mm,还能校正芯片偏移。
ASML、尼康、佳能也都在布局。
Manz成功交付了全球首台310mm×310mm面板级封装电化学沉积量产设备,还整合了清洗、显影、蚀刻等关键湿制程,形成了完整的RDL解决方案。
从310mm到700mm,全尺寸布局都给你安排好了。
CMP工艺是保障芯片良率的"守门员"。华海清科的510×515mm全自动板级CMP量产装备Master-P510APEX,已获得先进封装领域重要客户订单。
这是国产高端装备在先进封装核心工艺上的关键性突破!
第一台:600mm×600mm面板级封装去胶设备(Descum)成功出厂。搭载主动降温系统,基板温度稳定控制在75℃以内,良品率大幅提升!
第二台:板级封装PVD设备,专为TGV和RDL工艺设计,最多挂载10个腔室,产能拉满!
第三台:板级封装PIQ设备,温度均匀性控制在±3℃以内,氧含量控制到10ppm以下,达到了晶圆级水平!
首台水平式面板电镀设备Ultra ECP ap-p,支持铜、镍、锡银、金等多材质电镀,凸柱高度超300微米!
还拿下了全球头部半导体封装厂商的负压清洗设备订单,2026年第一季度交付。
这家国产厂商,海外订单都开始接了!
玻璃基板被英伟达、英特尔视为下一代AI封装的核心载体。而TGV通孔设备,是玻璃基板量产的第一道关卡。
大族半导体的TGV设备是国内研发最早、稳定用于量产的设备。
帝尔激光已经完成了面板级玻璃基板通孔设备出货,全面覆盖晶圆级和面板级!
圭华的狭缝涂布设备,在超大基板上实现微米级均匀涂布。
保定晶通机电的515×510mm玻璃基板双面抛光铜镍技术,已经通过客户考核!
传统先进封装设备市场,长期被Applied Materials、Lam Research、TEL这些国际巨头垄断。国产设备商想追,难如登天。
但面板级封装是个全新的技术路线,客户需求分散,设备标准还没完全定型。
这就给了国产设备商一个"同步起跑"的机会!
台积电和群创光电甚至直接买旧LCD厂房改成面板级封装产线!
因为LCD工艺中的光刻胶涂布、曝光、显影等步骤,和面板级封装的RDL制造高度相似。
这也是一批原本服务显示行业的国产设备商,跨界杀入半导体高端市场的绝佳跳板!
别high太早。面板级封装目前整体良率还是低于晶圆级封装。
而且面板尺寸不统一,设备商难以通过标准化量产摊薄研发成本。
材料、EDA工具、检测标准等也还相对滞后。
短期内还是一个"小批量验证、多品类并存"的阶段。
但谁能率先在某个关键工艺节点建立不可替代性,谁就能在放量期占据先机!
过去二十年,设备创新的核心叙事是摩尔定律。
但在AI时代,当单颗芯片的算力提升遭遇物理极限,封装成了延续性能增长的关键。
而面板级封装,就是降低先进封装成本、突破产能瓶颈的最优解之一。
半导体设备的下一个增量市场,就藏在这些方形的面板里。
而这一次,国产设备商已经拿到了入场券。
金句:别老盯着圆形的旧世界,方形的未来,才是国产设备商弯道超车的新战场。
你是看好面板级封装能在3年内大规模放量,还是觉得这只是短暂的资本热潮?评论区聊聊你的看法!
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